Подробное описание документа
Г. Д. Кузнецов, А. Р. Кушхов
Ионно-плазменная обработка материалов: курс лекций : курс лекций / Г. Д. Кузнецов, А. Р. Кушхов ; Федеральное агентство по образованию, Московский институт стали и сплавов (МИСиС), Кафедра технологии материалов электроники. - Москва : МИСиС, 2008. -
В курсе лекций рассматриваются основные ионно-плазменные процессы в технологии микро- и наноэлектроники. Приводится классификация процессов травления и осаждения тонких пленок материалов электронной техники и гетероструктур на их основе. Рассматриваются особенности селективного и анизотропного травления наноразмерных слоистых материалов при различных способах вакуум-плазменных процессов. Обсуждаются проблемы получения химически чистой поверхности подложек, а также возможные случаи повреждения и изменения шероховатости приповерхностного слоя. Анализируются возможности ионного синтеза и кристаллизации пленок при различных условиях ионного воздействия на поверхность обрабатываемого материала. Приводятся примеры использования ионно-плазменных процессов для создания элементов микро- и наноэлектроники.Курс лекций подготовлен по рекомендации горно-металлургической секции РАЕН.Содержание соответствует государственному образовательному стандарту по направлению «Электроника и микроэлектроника».Предназначено для студентов (бакалавров и магистров), обучающихся по направлениям 210100 «Электроника и микроэлектроника», 210600 «Нанотехнология».