Подробное описание документа
Управление формой пучка технологического ионного источника для высокоточной обработки поверхности / Духопельников Д. В., Воробьев Е. В., Ивахненко С. Г., Кириллов Д. В. - URL: https://vestniken.bmstu.ru/catalog/math/liqgasplasmamech/756.html (дата обращения: 11.03.2026). - DOI 10.18698/1812-3368-2017-3-24-36 // Вестник МГТУ им. Н. Э. Баумана. Сер. Естественные науки. - 2017. - № 3. -
Скачать документ
Показано, что эффект азимутального отклонения ионов в пучке ускорителя с замкнутым азимутальным дрейфом электронов можно использовать для управления формой ионного пучка и профилем распределения плотности ионного тока по радиусу. Изменяя профиль распределения магнитного поля вдоль оси ускорительного канала, можно управлять профилем плотности ионного тока, придавая ему как кольцевую форму, так и форму, близкую к распределению Гаусса. Предложен критерий для расчета магнитной системы, обеспечивающей наилучшую фокусировку ионного пучка. Установлено, что по известному распределению магнитного поля при оптимальной фокусировке ионного пучка можно оценить положение зоны ионизации в ускорительном канале.
537.5 Электронные и ионные явления. Разряды. Плазма. Излучения
Статья опубликована в следующих изданиях
№ 3. - 2017.
