RU/EN
RU/EN

Подробное описание документа

Рабинович О. И., Крутогин Д. Г., Евсеев В. А.
   Основы технологии электронной компонентной базы. Моделирование технологических процессов получения тонкопленочных материалов : учебно-методическое пособие / Рабинович О. И., Крутогин Д. Г., Евсеев В. А. ; Министерство образования и науки Российской Федерации, Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС", Кафедра технологии материалов электроники. - М. : Издательский дом МИСиС, 2012. - 80 с. : ил. - Библиогр. в конце разделов. - ISBN 978-5-87623-566-4.

В пособии излагаются теоретические основы технологических процессов роста полупроводниковых материалов и методы контроля в рамках курса «Основы технологии электронной компонентной базы».
Предназначено для студентов, обучающихся по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника» в качестве бакалавров, магистров и инженеров, при выполнении лабораторных работ, подготовке магистерских диссертаций и дипломных работ.

621.793 Нанесение металлических и неметаллических покрытий. Металлизация. Нанесение проводниковых, полупроводниковых, резистивных, диэлектрических, магнитных покрытий и пленок из них
1 экз.
Вы можете получить данный документ в одном из следующих отделов
  1. Преподавательский абонемент ауд.221л, УЛК, ауд. 221л
  2. Читальный зал ауд.305л, УЛК, ауд. 305л